氣氛爐介紹

氣氛爐是一種用于高溫處理材料的設備，主要用于淬火、回火退火,特殊材料燒結等工藝。它能夠提供高溫和特定的氣氛環(huán)境，以改變金屬材料的物理和化學性質。

智能控溫氣氛爐，帶觀察窗

氣氛爐優(yōu)勢：

1、提高產品質量和成品率

氣氛燒結爐是一種具有穩(wěn)定燒結環(huán)境的熱處理裝備。利用氣氛燒結爐可以控制燒結過程中的氣氛組成，使其達到最佳狀態(tài)，從而提高產品的質量和成品率。相對于傳統(tǒng)的熱處理設備，在氣氛燒結爐中，產品的熱處理過程相對更加均勻和穩(wěn)定，因此燒結后的產品具有更高的密度和結晶度，同時也能更好地保持其形狀。

2、減少環(huán)境污染

在傳統(tǒng)的熱處理設備中，由于燃燒產生的廢氣不易排放，常常造成環(huán)境污染。而在氣氛燒結爐中，通過控制燒結氣氛中的氣體成分和壓力，增加廢氣處理裝置，可以減少廢氣排放的污染程度。同時，燒結過程中，不產生液體廢物，可以降低廢物的處理難度和成本。

3、操作難度小

相對于傳統(tǒng)的熱處理設備，氣氛燒結爐的操作難度要小得多。操作者只需簡單設置和調整，就能夠實現精確的氣氛組成和溫度控制，確保產品能夠達到最佳的燒結效果。此外，氣氛燒結爐加PLC后，的動化程度較高，不僅可以減少人工干預的影響，同時還能大大降低操作者的勞動強度。

4、適用范圍廣

氣氛燒結爐在材料加工和制造行業(yè)中有著廣泛的應用。尤其是在粉末冶金、陶瓷制造、耐火材料制造等領域中，氣氛燒結爐無疑是一種最為理想的熱處理設備。此外，其在高溫合金加工、精密鑄造和航空航天等領域中也有著重要的地位。氣氛爐氣氛環(huán)境

1.真空環(huán)境:在真空環(huán)境下進行高溫處理可以避免金屬材料表面的污染和腐蝕。

2.氧化環(huán)境:在氧化環(huán)境下進行高溫處理可以使金屬材料表面形成一層氧化膜。

3.氮氣/氬氣環(huán)境:在氮化物環(huán)境下進行高溫處理可以增加金屬材料的硬度和耐磨性，同時還可以防止金屬材料表面的氧化和脫碳。

氮氣和氬氣區(qū)別：

(1)兩者都是惰性氣體，只是氮氣沒氬氣惰。氮氣密度和空氣差不多，氬氣密度較大，可以沉在底部，將空氣驅走。氮氣價格便宜。

(2)純度不一樣。氮氣的純度沒有氬氣的高，同時含水量，氬氣也要少。

(3)氮氣比氬氣傳熱快。

(4)氮氣是雙原子分子，氬氣是單原子惰性氣體，高溫的時候氮氣容易與物質發(fā)生化學反應，故高溫1000多度以上時，多采用氬氣。

(5)一般1000度以下處理碳材料時，氮氣或者氬氣效果基本一樣。如果是氫氣氬氣混合氣，會帶走有機物中的部分含氧官能團，并且一定的溫度下，即便沒有氫氣存在，含氧官能團也會以某種形式分解掉的。

(6)氮氣在高溫時容易把反應物物質氮化，所以要求純度高的話還是選用氬氣吧。

氣氛爐應用

1.汽車制造業(yè)：

用于淬火、退火等工藝，以改善汽車零部件的性能;

鉻鎳合金精密不銹鋼帶材在氫氣工藝氣氛下進行再結晶或奧氏體化。CrNi 鋼需要高達1180℃的高溫退火和快速冷卻，以獲得完美的奧氏體晶粒而沒有晶界沉淀。在氫氣氣氛下進行光亮退火的優(yōu)點，主要是能保持帶鋼表面的光滑和光亮。因此，在后處理過程中很少甚至不需要刷洗或拋光。最重要的是，與氧化表面退火材料相比，使用該方法材料的耐腐蝕性能有所提高。在氫氣氣氛中進行熱處理比需進行酸洗的氧化退火更加經濟，因為酸洗退火需要遵守嚴格的環(huán)境規(guī)定。

2.航空航天制造業(yè)：

用于生產航空發(fā)動機零部件等高強度材料：

航空航天燃氣輪機工作溫度高達1 400~1 500℃，超過用于制造渦輪葉片鎳基合金的熔點。以熔模精密鑄造工藝，在葉片內構建復雜空腔并通入壓縮冷卻氣體是必要的降溫方法。陶瓷型芯是熔模鑄造的核心部件之一，而SiO2 是制備高質量型芯的理想基體材料，也是工業(yè)生產中應用最為廣泛的基礎材料。在空氣和氮氣氣氛下進行煅燒

3.電子制造業(yè)：

用于制造半導體器件和其他電子元件

在半導體器件制造過程中，常常需要進行高溫退火、燒結和晶體生長等工藝，以提高器件的性能。真空氣氛爐可以提供無氧、無塵的環(huán)境，避免雜質對器件性能的影響，同時通過控制爐內的溫度和氣氛，可以實現對材料性能的精確控制，從而提高器件的可靠性和穩(wěn)定性。

4.真空氣氛爐還在光學和光電子領域有著重要的應用。

在光學鍍膜和光纖制備過程中，常常需要進行高溫燒結和退火等工藝，以提高光學器件的透明度和光學性能。真空氣氛爐可以提供無氧、無塵的環(huán)境，避免雜質對器件的影響，同時通過控制爐內的溫度和氣氛，可以實現對光學器件的精確控制，從而得到高質量的光學器件。

5.真空氣氛爐還廣泛應用于陶瓷工業(yè)

在陶瓷制品的生產過程中，經常需要進行燒結和熱處理等工藝，以提高陶瓷的致密度和力學性能真空氣氛爐可以提供無氧、無水的環(huán)境，避免雜質對陶瓷材料的影響，同時通過控制爐內的溫度和氣氛，可以實現對陶瓷材料的精確控制，從而得到高質量的陶瓷制品。

氣氛爐技術參數（支持定制）

1200度（電阻絲）氣氛爐參數

1400度（電阻絲）氣氛爐參數

1700度（電阻絲）氣氛爐參數

氣氛爐原理

1.氧化還原反應

在氣氛爐中，通過控制進出口的空氣流量和混合比例來調整爐內的氧化還原環(huán)境。例如，在退火過程中，需要控制爐內的空氣流量和混合比例，以減少被處理物品表面的氧化程度

2.氣體流動

由于不同的氣體密度不同，在進出口處形成了壓力差。這種壓力差會引起空氣在爐內形成流動，并改變爐內的溫度和壓力分布。因此，在設計和操作過程中需要考慮這些因素。